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御微半导体可覆盖 90nm 至 28nm 的掩模图形缺陷检测设备发运国内晶圆厂
御微半导体宣布，其自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600 已正式发运给国内头部晶圆厂。该设备具备分辨精细图形和规避辅助图形干扰的能力，并搭载了纳米级高精度运动平台，在技术上相较于早前交付的机型进行了全面升级。
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御微半导体可覆盖 90nm 至 28nm 的掩模图形缺陷检测设备发运国内晶圆厂
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